靶材有哪些?靶實際上是一個寬泛的概念,靶材的三類劃分方法:1.按外形尺寸可分為圓柱形、長方形、正方形板靶和管靶;2.按材質(zhì)分靶材可分為常規(guī)金屬靶材,貴金屬靶材,稀土金屬靶材,非金屬靶材,合金濺射靶材,陶瓷濺射靶材等;3.按照應(yīng)用領(lǐng)域可分為半導(dǎo)體用靶材、顯示面板用靶材、太陽能電池用靶材、磁記錄用靶材等。
按靶材形狀分類:
常見的靶材多為方靶、圓靶,均為實心靶材。在鍍膜作業(yè)中,圓環(huán)形的永磁體在靶材的表面產(chǎn)生的磁場為環(huán)形,會發(fā)生不均勻沖蝕現(xiàn)象,濺射的薄膜厚度均勻性不佳,靶材的使用效率大約只有20%~30%。而目前被推廣的空心管靶可繞固定的條狀磁鐵組件一定周期旋轉(zhuǎn)運動,360°靶面可被均勻刻蝕,優(yōu)勢明顯,將利用率提高到80%。
按靶材材質(zhì)分類:
常規(guī)金屬靶材:
鋁靶材Al、銅靶材Cu、鉻靶材Cr、鋇靶材Ba、鉍靶材Bi、鎘靶材Cd、鋯靶材Zr、鋅靶材Zn、鎳靶材Ni、鈷靶材Co、鈣靶材Ca、鈮靶材Nb、銦靶材In、鎢靶材W、鉬靶材Mo、釩靶材V、鐵靶材Fe、鈦靶材Ti、鉿靶材Hf、釔靶材Y、鉭靶材Ta、鋰靶材Li、鎂靶材Mg、錫靶材Sn、錳靶材Mn、鉛靶材Pb、硅靶材Si、鋁靶材Al、鈹靶材Be、銅靶材Cu、鈧靶材Sc
貴金屬靶材:
銀靶材Ag、金靶材Au、鉑靶材Pt、鈀靶材Pd、銠靶材Rh、銥靶材Ir、錸靶材Re、釕靶材Ru
稀土金屬靶材:
鑭靶材La、鈰靶材Ce、鐠靶材Pr、釹靶材Nd、釤靶材Sm、銪靶材Eu、釓靶材Gd、鋱靶材Tb、鏑靶材Dy、鈥靶材Ho、鉺靶材Er、銩靶材Tm、鐿靶材Yb、镥靶材Lu
非金屬靶材:
石墨靶材C、硼靶材B、鍺靶材Ge、硒靶材Se、銻靶材Sb、碲靶材Te
合金濺射靶材:
鈦鋁合金靶材TiAl、鈦鎢合金靶材TiW、鎢鎳合金靶材WNi、鎳鉻合金靶材NiCr、鎳鈦合金靶材NiTi、鎳釩合金靶材NiV、鎳鐵合金靶材NiFe、鐵鈷鎳鈮合金靶材FeCoNiNb、鈷鐵硼合金靶材CoFeB、鐵錳合金靶材FeMn、鐵鎵合金靶材FeGa、銅鎵合金靶材CuGa、錳鎵合金靶材MnGa、鎢錸合金靶材WRe、銥錳合金靶材IrMn、銅銦鎵硒合金靶材CIGS、鉬錸合金靶材MoRe、銦錫合金靶材InSn、金錫合金靶材AuSn、金鍺鎳合金靶材AuGeNi、金鍺合金靶材AuGe、鋅鋁合金靶材ZnAl、鋁銅合金靶材AlCu、鋯鈦合金靶材ZrTi、銅鋅錫硫合金靶材CZTS、鈷鈮鋯合金靶材CoNbZr、鈷鉭鋯合金靶材CoTaZr、鋱鈷合金靶材TbCo、鋱鐵鈷合金TbFeCo
按靶材應(yīng)用領(lǐng)域分類:
1、半導(dǎo)體應(yīng)用領(lǐng)域細(xì)分
電極、布線薄膜(鋁靶材,銅靶材,金靶材,銀靶材,鈀靶材,鉑靶材,鋁硅合金靶材,鋁硅銅合金靶材等);
儲存器電極薄膜(鉬靶材,鎢靶材,鈦靶材等);粘附薄膜(鎢靶材,鈦靶材等);電容器絕緣膜薄膜(鋯鈦酸鉛靶材等)。
2、磁記錄應(yīng)用領(lǐng)域細(xì)分
垂直磁記錄薄膜(鈷鉻合金靶材等); 硬盤用薄膜(鈷鉻鉭合金靶材,鈷鉻鉑合金靶材,鈷鉻鉭鉑合金靶材等);
薄膜磁頭(鈷鉭鉻合金靶材,鈷鉻鋯合金靶材等);人工晶體薄膜:(鈷鉑合金靶材,鈷鈀合金靶材等)。
3、光記錄應(yīng)用領(lǐng)域細(xì)分
相變光盤記錄薄膜(硒化碲靶材,硒化銻靶材,鍺銻碲合金靶材,鍺碲合金靶材等); 磁光盤記錄薄膜(鏑鐵鈷合金靶材,鋱鏑鐵合金靶材,鋱鐵鈷合金靶材,氧化鋁靶材,氧化鎂靶材,氮化硅靶材等);光盤反射薄膜(鋁靶材,鋁鈦合金靶材,鋁鉻合金靶材,金靶材,金合金靶材等)。光盤保護(hù)薄膜(氮化硅靶材,氧化硅靶材,硫化鋅靶材等)。
4、顯示面板應(yīng)用領(lǐng)域細(xì)分
透明導(dǎo)電薄膜(氧化銦錫靶材,氧化鋅鋁靶材等);電極布線薄膜(鉬靶材,鎢靶材,鈦靶材,鉭靶材,鉻靶材,鋁靶材,鋁鈦合金靶材,鋁鉭合金靶材等) 電致發(fā)光薄膜(硫化鋅摻錳靶材,硫化鋅摻鋱靶材,硫化鈣摻銪靶材,氧化釔靶材,氧化鉭靶材,鈦酸鋇靶材等)。
5、其他應(yīng)用領(lǐng)域細(xì)分
裝飾薄膜(鈦靶材,鋯靶材,鉻靶材,鈦鋁合金靶材,不銹鋼靶材等);
低電阻薄膜(鎳鉻合金靶材,鎳鉻硅合金靶材,鎳鉻鋁合金靶材,鎳銅合金靶材等);超導(dǎo)薄膜(釔鋇銅氧靶材,鉍鍶鈣銅氧靶材等);
工具鍍薄膜(氮化物靶材,碳化物靶材,硼化物靶材,鉻靶材,鈦靶材,鈦鋁合金靶材,鋯靶材,石墨靶材等)。