鉬（10%）鈮合金濺射靶材在薄膜太陽電池和顯示器中具有廣闊的應用前景。但是，由于鈮粉體在燒結過程中對氧的吸收，導致燒結后的鉬鈮坯體含氧量高、密度低。本次在CH4氣氛下通過化學氣相反應制備了鈮碳包覆層的鈮粉末。鈮碳層不僅有助于阻止氧的吸收，而且可以在所需溫度下與氧反應完全消耗掉。研究了制備方法、反應介質和反應參數對鈮碳層性能的影響，確定了佳工藝條件為：溫度600℃，反應時間270min，氣壓0.04mpa。用掃描電子顯微鏡、X射線光電子能譜、電子探針顯微分析、拉曼光譜和原子力顯微鏡對鍍層的表面形貌、化學成分、分布和均勻性進行了表征。用ONH和CS分析儀測定了氧和碳的含量。將表面改性鈮粉與鉬粉混合，真空燒結，得到含氧量190ppm，碳含量290ppm，相對密度93%的Mo-10%Nb坯料。該坯料的質量明顯優(yōu)于用非表面改性鈮粉制備的坯料。

鈮靶材的用途

       作為鈮及其合金膜的關鍵成分，鈮濺射靶材用于彩色TFT LCD平板電腦，光學透鏡，電子成像，信息存儲，太陽能電池，玻璃涂層以及在耐腐蝕環(huán)境中，例如運輸和化工生產領域。

       如今，鈮濺射靶材主要應用于先進的觸摸屏，平板顯示器和節(jié)能玻璃的表面涂層。在玻璃屏幕上具有防反射作用。

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